Présentation des produits

Nous utilisons du nickel de haute pureté-comme matière première et utilisons une technologie de traitement et de polissage professionnelle pour que nos cibles en nickel présentent les caractéristiques d'une efficacité de pulvérisation élevée et d'une bonne stabilité thermique. Dans l'industrie des semi-conducteurs, les cibles en nickel constituent un matériau de pulvérisation particulièrement critique car elles peuvent déposer des films de nickel uniformes et de haute qualité-sur des substrats semi-conducteurs. Qu'il s'agisse de puces logiques, de puces mémoire ou de divers capteurs semi-conducteurs avancés, les cibles en nickel Ni201 jouent un rôle irremplaçable et sont l'un des matériaux de base pour garantir les performances et la fiabilité des produits semi-conducteurs.

Spécification des produits

Longueur	100mm-500mm
Largeur	80mm-300mm
Épaisseur	Personnalisé
Tolérance	±0,05 mm
Point de fusion	1455 degrés
Densité	8,9 g/cm³
Résistance à la traction	Supérieur ou égal à 450MPa
Limite d'élasticité	Supérieur ou égal à 200MPa
Dureté	HRB 50 - 55
Élongation	Supérieur ou égal à 30%

Caractéristiques et applications du produit

Excellente uniformité de pulvérisation

Nous utilisons des procédés de fabrication avancés et des normes élevées de contrôle de qualité, qui permettent à nos cibles en nickel de présenter un haut niveau d'uniformité pendant le processus de pulvérisation. Cette uniformité permet aux atomes de nickel d'être libérés de la surface cible et de se déposer sur le substrat à un rythme stable et constant, formant ainsi un film de nickel avec une déviation minimale et une planéité de surface élevée.

Excellentes propriétés mécaniques

Le matériau cible en nickel Ni201 a une bonne résistance à la traction, une bonne limite d'élasticité et un bon allongement, de sorte qu'il peut résister à diverses contraintes de traitement pendant la production et le traitement sans se casser.

Bonne stabilité thermique

Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs, la résistance aux températures élevées est un attribut du produit qui ne peut être ignoré. Le matériau cible en nickel Ni201 a une bonne stabilité thermique et peut maintenir des propriétés physiques et chimiques stables à haute température. Cela ne provoquera pas d’expansion, de contraction ou de déformation évidente en raison des températures élevées. Cela garantit un processus de pulvérisation stable et une qualité constante du film de nickel.